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眼见为实(下):隐身之反铁磁畴

  • 摘要: 上篇所描绘的磁畴成像方法,虽然有些方法所搭载的工具很强大,比如洛伦兹成像搭载的TEM、桑巴成像搭载的SEM等,都与电子显微镜有关,但这些方法的基本机制都可以在经典电磁学框架下描述,也因此这些成像的衬度只是决定于成像位点附近的磁矩或杂散场(矢量,有大小和方向)。分辨率问题可以各显神通,但这些成像技术一个根本性的缺憾是:对材料组成不敏感。

     

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