摘要: 一、前言离子注入工艺是把要注入的杂质元素电离成离子．然后通过磁分析器分析和加速器加速，得到较纯的离子，并以很快的速度，将这种离子打入固体靶内，以达到改变固体表面的物理化学性能．这种注入工艺早在五十年代就已进行了大量的研究．当时的研究以金属为主。主要是进行原子相互作用的物理探索，模拟反应堆材料的辐照损伤效应．在六十年代初·人们已经知道半导体材料的电学性质，可以由辐照损伤和射入快速离子而产生变化?...