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区熔[115]硅单晶的外形特征

徐文耀

徐文耀. 区熔[115]硅单晶的外形特征[J]. 物理, 1981, 10(10): 606-609.
引用本文: 徐文耀. 区熔[115]硅单晶的外形特征[J]. 物理, 1981, 10(10): 606-609.

区熔[115]硅单晶的外形特征

  • 摘要: 在半导体硅材料的研究和应用中,广泛地使用沿[111]和[100]晶向生长的硅单晶,而对其他晶向生长的硅单晶,则研究和应用较少.对沿[115]生长的硅单晶国外虽有报道[1,2],但应用还不普遍,国内还未研究报告.本文总结了我们多年来对区熔[115]硅单晶的研究工作.在文献[1]中仅就[115]硅单晶的生长机理同[111]硅单晶进行了比较,同时研究了固-液界面的不同特点,指出[115]硅单晶生长?...
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出版历程
  • 发布日期:  1981-10-19

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