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低温下p-n结正向特性的实验研究

  • 摘要: 我们在4.2—300K的温区对Ge.Si.GaAs的p-n结正向压降与温度的关系进行了实验研究,发现了两个有普遍性的规律:(1)随着温度的降低,所有的Ge,Si,GaAs二极管的正向压降与温度关系曲线都存在一个突变点,低于突变温度之后,二极管正向压降随着温度的降低急剧增高,呈单晶热敏电阻特性.(2)高于突变温度后,二极管正向压降V随着温度丁的增高而缓慢减小,dV/dT随温度的增高而增大,d2V/dT2随温度的增高单调减?...

     

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