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溅射及其应用

  • 摘要: 当入射离子能量超过靶材料的溅射阈能时,就会发生溅射现象.离子刻蚀和薄膜生长乃是溅射实际应用中的两个重要方面.一、溅射的物理基础1.溅射率随寓子入射能量的变化一个离子轰击靶表面时,被溅射出来的靶原子数目称为溅射率S(原子数/离子).溅射率S随入射离子能量E的变化而变化.图1是在氩离子轰击多晶铜靶时,溅射率S随氮离子能量E的变化曲线[1].在图1中,区域I表明:由于氩离子能量E<10eV(低于铜?...

     

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