摘要: １９７２年，日本京都大学电子学系的高木俊宜等人提出了一种新的成膜技术，叫做集团离子束成膜技术．这种技术有一系列优点：成膜速度快，每分钟可达数十毫微米到数微术．膜的密度接近大块物质的密度，膜和基板的附着力强．可以控制生成膜的性质，可以在较低基板温度下生成单晶膜、非晶膜、金属膜、绝缘体膜、化合物膜和高分子膜，成膜质量优于其他成膜技术．近年来这项技术发展较快，日本三菱电机、真空技术、双叶电子工业等?...