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CF_4-N_2O等离子体刻蚀工艺

  • 摘要: 等离子体刻蚀(PE)具有成本低、清洁、线条分辨率高以及容易实现工艺自动化等优点.近几年来,随着低温等离子体淀积氮化硅半导体器件表面钝化技术的普及推广,等离子体刻蚀工艺得到了广泛的应用.我们从1981年起在大批量器件生产中应用了等离子体氮化硅刻蚀工艺。几年来由于被加工的器件种类不断增加,PE工艺本身存在的一些问题陆续暴露了出来.为解决这些问题,我们做了一些工作.一、小电流放大系数(hFE)的下?...

     

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