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光-CVD技术的最新进展及其应用

  • 摘要: 采用光诱导激励化学反应气氛淀积成固态薄膜,是近些年来在国际上发展极为迅速的一种薄膜生长新技术.本文介绍了光-CVD技术的基本原理及特性,以及用该技术淀积各种类型金属薄膜、半导体薄膜、绝缘性薄膜以及ш-v族化合物半导体薄膜.介绍了光-CVD技术在大规模集成电路、硅器件微加工过程中的重要应用,用光-CVD技术在低到~200℃温度下已成功地制备出~100nm厚的薄层外延单晶硅膜.

     

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