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郭向勇. 低温氧化与超薄介质层的生长及应用[J]. 物理, 1989, 18(9).
引用本文: 郭向勇. 低温氧化与超薄介质层的生长及应用[J]. 物理, 1989, 18(9).
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低温氧化与超薄介质层的生长及应用

    摘要
  • 摘要: 低温氧化技术是生长１０－３０■任一超薄介质层的关键工艺．本文着重介绍低温氧化生长超薄介质层的物理机理和工艺原理．从超薄介质层在ＭＩＳ（金属－绝缘层－半导体）太阳电池中的应用，可以看出它的存在和作用，也是对低温氧化技术的检验．

     

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