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掠入射、全反射及其在X射线荧光分析中的应用

  • 摘要: 掠入射、全反射技术应用于化学的微量及超微量元素分析和表面分析,给X射线荧光分析技术带来了突破性的发展.目前,利用全反射X荧光分析技术对微量元素进行分析,其检测限已达到pg级,硅片表层杂质分析的检测限达到109个原子/cm2.文章介绍了该技术的基本理论和特点、近年来国内外发展情况及应用的例子.

     

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