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汤宝寅. 等离子体源离子注入(I)──原理和技术[J]. 物理, 1994, 23(1).
引用本文:
汤宝寅. 等离子体源离子注入(I)──原理和技术[J]. 物理, 1994, 23(1).
等离子体源离子注入(I)──原理和技术
汤宝寅
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等离子体源离子注入(PSII)是用于材料表面改性的一种新的、廉价的、非视线技术,它消除了一般束线离子注入(IBII)所固有的视线限制,克服了保持剂量问题,使注入装置变得简单和价廉。介绍了PSII过程、装置和基本物理与技术问题,也介绍了在美国威斯康辛大学和哈尔滨工业大学PSII研究室中进行的PSII技术研究及其工业应用的初步结果。
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