高级检索

一种制备金属硅化物的离子束新技术

  • 摘要: 随着目前超大规模集成电路的迅速发展,要求器件尺寸按比例缩小,线宽也要求相应变窄。而多晶硅的薄层电阻极限为30-60/口,因此器件尺寸的进一步减小就被栅极内引线的内线电阻所限制。为此,必须寻找新的合适的替代物以改进电路的速度。对于MOS器件来说,其特性取决于一系列参数,其中以RC时间常数最为重要?...

     

/

返回文章
返回